-
Wafer με επικάλυψη αλουμινίου:
Οι βάσεις πυριτίου με επικάλυψη αλουμινίου μέσω PVD προσφέρουν βελτιωμένες ηλεκτρικές επιδόσεις και ποιότητα επιφάνειας, κατάλληλες για έρευνα σε ημιαγωγούς.
-
Επιλογές πάχους:
Το πάχος του αλουμινίου ποικίλλει από 50 nm έως 1000 nm, επιτρέποντας ακριβή ρύθμιση ηλεκτρικών, οπτικών και διαφορικών χαρακτηριστικών.
-
Προσαρμοζόμενα υπόστρώματα:
Τα δίκτυα υποστρώματος και οι τύποι φιλμ μπορούν να προσαρμοστούν ώστε να ταιριάζουν στις απαιτήσεις του πειράματός σας.
-
Προαιρετικά στρώματα πρόσφυσης Cr/Ti:
Τα προαιρετικά στρώματα πρόσφυσης Cr ή Ti βελτιώνουν τη δέσμευση και τη σταθερότητα του φιλμ σε δύσκολες επιφάνειες.
-
Ποιότητα εργαστηρίου:
Κατασκευασμένα σύμφωνα με πρότυπα εργαστηρίου, με σταθερό έλεγχο πάχους και καθαρή επιφάνεια για αξιόπιστα αποτελέσματα.
-
Επικάλυψη PVD:
Η επικάλυψη αλουμινίου μέσω PVD σε Al–Si υποστρώματα εξασφαλίζει ομοιογενή κάλυψη για ένα ευρύ φάσμα διεργασιών κατάθεσης και χαρακτηρισμού.




